中國曝光機羲之，精度逼近 卻難量產

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

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為了突破 EUV 技術瓶頸
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外媒報導
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